Planar DS-XY纳米定位平台
Linear positioning platform
■集成一体式、低组高结构,行程可达300×300mm
■控制分辨率＜0.3nm, 重复定位精度最高≤75 nm
■位置定位能力优于2nm
■快速的整定时间，25ms可进入±5nm的稳态误差
■高刚性接近气浮轴系效果的滑动摩擦轴系，出色的空间几何精度
- 产品概要
- 技术指标
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- 订购信息
Planar DS-XY系列是一款紧凑型、低组高，同时具有优良几何机械精度、高动态性能的集成一体式XY平面运动纳米定位平台。该平台具有纳米级的双向重复定位性能。可以广泛应用于表面轮廓测量和晶圆切割、光刻直写、激光微纳加工等高端应用领域。
■ 超高的空间几何精度
Planar DS-XY二维直驱平台的直线度、正交误差等关键指标具有多种规格可选同时对结构刚性进行了特殊的优化以满足苛刻的高动态响应要求，加速度最大可以达到1.5g，速度最快可达750mm/s。这使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力。该产品运行平滑，速度波动小，尤其适合于扫描应用
■ 超高精度等级选项
多轴定位系统为了达到尽可能高的系统精度（特别是纳米级精度），必须在严格的环境条件下，在机械系统完全组装、功能测试完毕，使用特定检测仪器通过对REI95XY平台进行动态轨迹检测，同时将检测数据通过系统控制软件进行动态校准，经校准后可以保证二维运动精度达到±200nm或者更好。
Planar DS-XY标准版本和超高精度版本的性能差异主要通过正交误差进行体现。经校准后的超高精度版本可以对直线度、正交误差、偏航角误差等带来的精度误差进行部分修正消除，但并不意味着改变了原始的物理机械精度。
■ 非接触式直接驱动
Planar DS-XY二维平台具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。
Planar DS-200XY和Planar DS-300XY,每个轴均可以实现一个或者两个电机的配置，从而为各种不同负载的使用提供了更多的选择。无论是单电机还是双电机，其所产生的推力和摩擦力均保持在平台的几何中心，这样的设计保证了平台的性能。
■ 集成线缆管理
Planar DS-XY二维平台拥有专为长寿命和性能优化而设计的电缆管理系统，可以非常快速的与其他平台进行组合使用。特殊的线缆管理方案还可以提供额外的气路走线，同时不影响平台的性能。
