SWI-SV系列高精度垂直升降台以尽可能低的组高实现长行程、精确的垂直运动。四种不同的型号具有不同的行程和承载能力，每个型号都具有多种配置，使SWI-SV系列产品成为所有高性能垂直运动的理想选择。

■ 出色的动态性能

SWI_SV系列垂直升降台采用SP级交叉滚柱导轨和精密研磨的滚珠丝杠，具有卓越的几何性能和极佳的最小增量运动。与使用滚动摩擦轴系的其他产品相比，它具有优于30nm的最小增量步长和定位稳定性。这使得SWI_SV 系列垂直升降台成为许多高精度运动的理想之选，例如传感器和相机的垂直定位、光学对焦以及光学干涉测量等应用。

■ 极佳的位置稳定性

高精度五相步进电机配合指定预压型精密研磨丝杆驱动方式，结合直接耦合的反馈系统，完全回避了传统交直流伺服电机驱动因PID闭环控制所带来的位置抖动误差。因其采用脉冲指令型五相步进电机，使其快速定位后几乎处于绝对静止状态。尤其适用于需要完全静止状态下工作的应用场合。

■ 低空间内实现大行程的垂直升降运动

与其他类型的垂直运动平台不同，SWI-SV采用了直接驱动运动台面的运动机构，使其在保持最小高度的同时实现较大的行程。最小化工作点高度的设计使其进一步减小了阿贝误差，从而有助于提高系统整体精度。

■ 灵活的系统设计

SWI-SV系列产品可无缝集成到多轴运动平台、运动系统和设备中。它可直接安装在BHC研发的SWI-SL和SWI-LM系列工作台上，并配有可选的工作台面，可在工作台面上集成各种旋转工作台或其他工艺设备，以实现快速的系统搭建和开发。

SWI-SV系列高精度垂直升降台以尽可能低的组高实现长行程、精确的垂直运动。四种不同的型号具有不同的行程和承载能力，每个型号都具有多种配置，使SWI-SV系列产品成为所有高性能垂直运动的理想选择。

■ 出色的动态性能

SWI_SV系列垂直升降台采用SP级交叉滚柱导轨和精密研磨的滚珠丝杠，具有卓越的几何性能和极佳的最小增量运动。与使用滚动摩擦轴系的其他产品相比，它具有优于30nm的最小增量步长和定位稳定性。这使得SWI_SV 系列垂直升降台成为许多高精度运动的理想之选，例如传感器和相机的垂直定位、光学对焦以及光学干涉测量等应用。

■ 极佳的位置稳定性

高精度五相步进电机配合指定预压型精密研磨丝杆驱动方式，结合直接耦合的反馈系统，完全回避了传统交直流伺服电机驱动因PID闭环控制所带来的位置抖动误差。因其采用脉冲指令型五相步进电机，使其快速定位后几乎处于绝对静止状态。尤其适用于需要完全静止状态下工作的应用场合。

■ 低空间内实现大行程的垂直升降运动

与其他类型的垂直运动平台不同，SWI-SV采用了直接驱动运动台面的运动机构，使其在保持最小高度的同时实现较大的行程。最小化工作点高度的设计使其进一步减小了阿贝误差，从而有助于提高系统整体精度。

■ 灵活的系统设计

SWI-SV系列产品可无缝集成到多轴运动平台、运动系统和设备中。它可直接安装在BHC研发的SWI-SL和SWI-LM系列工作台上，并配有可选的工作台面，可在工作台面上集成各种旋转工作台或其他工艺设备，以实现快速的系统搭建和开发。

■ 出色的动态性能

SWI_SV系列垂直升降台采用SP级交叉滚柱导轨和精密研磨的滚珠丝杠，具有卓越的几何性能和极佳的最小增量运动。与使用滚动摩擦轴系的其他产品相比，它具有优于30nm的最小增量步长和定位稳定性。这使得SWI_SV 系列垂直升降台成为许多高精度运动的理想之选，例如传感器和相机的垂直定位、光学对焦以及光学干涉测量等应用。

■ 极佳的位置稳定性

高精度五相步进电机配合指定预压型精密研磨丝杆驱动方式，结合直接耦合的反馈系统，完全回避了传统交直流伺服电机驱动因PID闭环控制所带来的位置抖动误差。因其采用脉冲指令型五相步进电机，使其快速定位后几乎处于绝对静止状态。尤其适用于需要完全静止状态下工作的应用场合。

■ 低空间内实现大行程的垂直升降运动

与其他类型的垂直运动平台不同，SWI-SV采用了直接驱动运动台面的运动机构，使其在保持最小高度的同时实现较大的行程。最小化工作点高度的设计使其进一步减小了阿贝误差，从而有助于提高系统整体精度。

■ 灵活的系统设计

SWI-SV系列产品可无缝集成到多轴运动平台、运动系统和设备中。它可直接安装在BHC研发的SWI-SL和SWI-LM系列工作台上，并配有可选的工作台面，可在工作台面上集成各种旋转工作台或其他工艺设备，以实现快速的系统搭建和开发。

■ 出色的动态性能

SWI_SV系列垂直升降台采用SP级交叉滚柱导轨和精密研磨的滚珠丝杠，具有卓越的几何性能和极佳的最小增量运动。与使用滚动摩擦轴系的其他产品相比，它具有优于30nm的最小增量步长和定位稳定性。这使得SWI_SV 系列垂直升降台成为许多高精度运动的理想之选，例如传感器和相机的垂直定位、光学对焦以及光学干涉测量等应用。

■ 极佳的位置稳定性

高精度五相步进电机配合指定预压型精密研磨丝杆驱动方式，结合直接耦合的反馈系统，完全回避了传统交直流伺服电机驱动因PID闭环控制所带来的位置抖动误差。因其采用脉冲指令型五相步进电机，使其快速定位后几乎处于绝对静止状态。尤其适用于需要完全静止状态下工作的应用场合。

■ 低空间内实现大行程的垂直升降运动

与其他类型的垂直运动平台不同，SWI-SV采用了直接驱动运动台面的运动机构，使其在保持最小高度的同时实现较大的行程。最小化工作点高度的设计使其进一步减小了阿贝误差，从而有助于提高系统整体精度。

■ 灵活的系统设计

SWI-SV系列产品可无缝集成到多轴运动平台、运动系统和设备中。它可直接安装在BHC研发的SWI-SL和SWI-LM系列工作台上，并配有可选的工作台面，可在工作台面上集成各种旋转工作台或其他工艺设备，以实现快速的系统搭建和开发。

SWI-DV系列高精度垂直升降台以尽可能低的组高实现长行程、精确的垂直运动。三种不同的型号具有不同的行程和承载能力，每个型号都具有多种配置，使SWI-DV系列产品成为所有高性能垂直运动的理想选择。

■ 卓越的快速定位能力

与传统采用交直流伺服电机驱动的垂直升降台不同，SWI_DV 系列垂直升降台采用无铁芯分体式力矩电机配合指定预压型精密研磨滚珠丝杆驱动。无铁芯分体式力矩电机具有转动惯量大、加速性能优异、动态响应快、控制分辨率高等优点，配合交叉滚柱滑动摩擦轴系，实现了极其平滑的运动和出色的高动态响应能力。特殊定制研发的电磁制动器提供了出色的失电保护功能。

■ 低空间内实现大行程的垂直升降运动

与其他类型的垂直运动平台不同，SWI-DV采用了无铁芯分体式力矩电机配合精密研磨滚珠丝杆，结合交叉滚柱滑动摩擦轴系，实现了极其平滑的运动和出色的高动态响应能力。直接驱动运动台面的运动机构，使其在保持最小高度的同时实现较大的行程。最小化工作点高度的设计使其进一步减小了阿贝误差，从而有助于提高系统整体精度。

■ 出色的动态性能

SWI_DV系列垂直升降台采用SP级交叉滚柱导轨和精密研磨的滚珠丝杠，具有卓越的几何性能和极佳的最小增量运动。与使用滚动摩擦轴系的其他产品相比，无铁芯分体式力矩电机的应用,ms级的控制响应能力，使其在具有优于30nm的最小增量步长和定位稳定性的同时,提供了出色的动态响应能力。这使得SWI_DV 系列垂直升降台成为许多高精度运动的理想之选，例如传感器和相机的垂直定位、光学对焦以及光学干涉测量等应用。

■ 灵活的系统设计

SWI-DV系列产品可无缝集成到多轴运动平台、运动系统和设备中。它可直接安装在BHC研发的SWI-SL和SWI-LM系列工作台上，并配有可选的工作台面，可在工作台面上集成各种旋转工作台或其他工艺设备，以实现快速的系统搭建和开发。

SWI-DV系列高精度垂直升降台以尽可能低的组高实现长行程、精确的垂直运动。三种不同的型号具有不同的行程和承载能力，每个型号都具有多种配置，使SWI-DV系列产品成为所有高性能垂直运动的理想选择。

■ 卓越的快速定位能力

与传统采用交直流伺服电机驱动的垂直升降台不同，SWI_DV 系列垂直升降台采用无铁芯分体式力矩电机配合指定预压型精密研磨滚珠丝杆驱动。无铁芯分体式力矩电机具有转动惯量大、加速性能优异、动态响应快、控制分辨率高等优点，配合交叉滚柱滑动摩擦轴系，实现了极其平滑的运动和出色的高动态响应能力。特殊定制研发的电磁制动器提供了出色的失电保护功能。

■ 低空间内实现大行程的垂直升降运动

与其他类型的垂直运动平台不同，SWI-DV采用了无铁芯分体式力矩电机配合精密研磨滚珠丝杆，结合交叉滚柱滑动摩擦轴系，实现了极其平滑的运动和出色的高动态响应能力。直接驱动运动台面的运动机构，使其在保持最小高度的同时实现较大的行程。最小化工作点高度的设计使其进一步减小了阿贝误差，从而有助于提高系统整体精度。

■ 出色的动态性能

SWI_DV系列垂直升降台采用SP级交叉滚柱导轨和精密研磨的滚珠丝杠，具有卓越的几何性能和极佳的最小增量运动。与使用滚动摩擦轴系的其他产品相比，无铁芯分体式力矩电机的应用,ms级的控制响应能力，使其在具有优于30nm的最小增量步长和定位稳定性的同时,提供了出色的动态响应能力。这使得SWI_DV 系列垂直升降台成为许多高精度运动的理想之选，例如传感器和相机的垂直定位、光学对焦以及光学干涉测量等应用。

■ 灵活的系统设计

SWI-DV系列产品可无缝集成到多轴运动平台、运动系统和设备中。它可直接安装在BHC研发的SWI-SL和SWI-LM系列工作台上，并配有可选的工作台面，可在工作台面上集成各种旋转工作台或其他工艺设备，以实现快速的系统搭建和开发。

SWI-DV系列高精度垂直升降台以尽可能低的组高实现长行程、精确的垂直运动。三种不同的型号具有不同的行程和承载能力，每个型号都具有多种配置，使SWI-DV系列产品成为所有高性能垂直运动的理想选择。

■ 卓越的快速定位能力

与传统采用交直流伺服电机驱动的垂直升降台不同，SWI_DV 系列垂直升降台采用无铁芯分体式力矩电机配合指定预压型精密研磨滚珠丝杆驱动。无铁芯分体式力矩电机具有转动惯量大、加速性能优异、动态响应快、控制分辨率高等优点，配合交叉滚柱滑动摩擦轴系，实现了极其平滑的运动和出色的高动态响应能力。特殊定制研发的电磁制动器提供了出色的失电保护功能。

■ 低空间内实现大行程的垂直升降运动

与其他类型的垂直运动平台不同，SWI-DV采用了无铁芯分体式力矩电机配合精密研磨滚珠丝杆，结合交叉滚柱滑动摩擦轴系，实现了极其平滑的运动和出色的高动态响应能力。直接驱动运动台面的运动机构，使其在保持最小高度的同时实现较大的行程。最小化工作点高度的设计使其进一步减小了阿贝误差，从而有助于提高系统整体精度。

■ 出色的动态性能

SWI_DV系列垂直升降台采用SP级交叉滚柱导轨和精密研磨的滚珠丝杠，具有卓越的几何性能和极佳的最小增量运动。与使用滚动摩擦轴系的其他产品相比，无铁芯分体式力矩电机的应用,ms级的控制响应能力，使其在具有优于30nm的最小增量步长和定位稳定性的同时,提供了出色的动态响应能力。这使得SWI_DV 系列垂直升降台成为许多高精度运动的理想之选，例如传感器和相机的垂直定位、光学对焦以及光学干涉测量等应用。

■ 灵活的系统设计

SWI-DV系列产品可无缝集成到多轴运动平台、运动系统和设备中。它可直接安装在BHC研发的SWI-SL和SWI-LM系列工作台上，并配有可选的工作台面，可在工作台面上集成各种旋转工作台或其他工艺设备，以实现快速的系统搭建和开发。

REI_V系列纳米垂直升降台，是一款标准化、模块化，楔形结构的高精度垂直升降平台。其采用无铁芯直线电机驱动，精密交叉滚柱导向，是速度、精度、系统分辨率、重复定位精度、可靠性、紧凑尺寸的最好结合，作为REI系列产品的衍生产品，该平台表现出了与REI_LM系列同样的运动性能，是需要紧凑空间应用的最佳Z轴选择。

■ 非接触式直接驱动

非接触式直接驱动技术的应用，使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力，从而使其大规模生产成为可能。REI_V系列微动纳米垂直升降台是先进的直接驱动技术实现纳米级定位性能的代表作品之一。非接触式直接驱动技术具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。独特的结构设计、紧凑的空间尺寸使其在严苛的安装空间中同样可以获得高性能。

■ 灵活的系统设计

REI_V系列产品具有标准化的通用安装方式，便于系统集成。二轴、三轴或更多轴的应用均可以通过标准孔位灵活的进行组装搭配。灵活的设计非常便于多轴配置和应用。

■ 出色的动平衡机制

REI225V纳米垂直升降平台，可选动平衡配置。其采用几乎零摩擦的平衡机制，维持高性能的同时最大限度的减少电机的发热。平衡能力从0到15Kg用户可调。

■ 系统特性

极高的系统分辨率是出色的精度、重复定位精度、位置稳定性的基础。REI_V 纳米垂直升降台在直线电机应用中实现了优于5nm的最小增量运动，该系列平台具有零背隙和近乎零系统迟滞性特性，从而可以实现精确和高重复的纳米运动，以及极低速的平滑运动(10nm/s)。

REI_V系列纳米垂直升降台，是一款标准化、模块化，楔形结构的高精度垂直升降平台。其采用无铁芯直线电机驱动，精密交叉滚柱导向，是速度、精度、系统分辨率、重复定位精度、可靠性、紧凑尺寸的最好结合，作为REI系列产品的衍生产品，该平台表现出了与REI_LM系列同样的运动性能，是需要紧凑空间应用的最佳Z轴选择。

■ 非接触式直接驱动

非接触式直接驱动技术的应用，使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力，从而使其大规模生产成为可能。REI_V系列微动纳米垂直升降台是先进的直接驱动技术实现纳米级定位性能的代表作品之一。非接触式直接驱动技术具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。独特的结构设计、紧凑的空间尺寸使其在严苛的安装空间中同样可以获得高性能。

■ 灵活的系统设计

REI_V系列产品具有标准化的通用安装方式，便于系统集成。二轴、三轴或更多轴的应用均可以通过标准孔位灵活的进行组装搭配。灵活的设计非常便于多轴配置和应用。

■ 出色的动平衡机制

REI225V纳米垂直升降平台，可选动平衡配置。其采用几乎零摩擦的平衡机制，维持高性能的同时最大限度的减少电机的发热。平衡能力从0到15Kg用户可调。

■ 系统特性

极高的系统分辨率是出色的精度、重复定位精度、位置稳定性的基础。REI_V 纳米垂直升降台在直线电机应用中实现了优于5nm的最小增量运动，该系列平台具有零背隙和近乎零系统迟滞性特性，从而可以实现精确和高重复的纳米运动，以及极低速的平滑运动(10nm/s)。