RUG_LG系列高精度万向系统，拥有较低的轮廓高度。采用具有极低滑动摩擦系数的角接触轴系，可以提供精确的角度定位、极低的速度波动和高动态响应性能，可快速开发并完成各种系统集成。为光学引导、激光对抗、天线、高精度快反镜和传感器测试提供高速精确的角度指向定位。典型应用包括导弹导引头测试与校准、光电传感器前视红外探测、陀螺仪等惯性传感器角度测试、MEMS加速度计、吊舱应用等。RUG_LG高精度万向系统，是CNBHC采用最新精密转台工艺技术而设计改良的高动态360°角度对位系统。可根据需求进行特殊定制开发，包括高低温、真空环境等特殊领域应用。

■低重心设计

RUG精密万向系统集成了MDRT和MDRS系列产品的优点，RUG精密万向系统的速度和加速能力明显高于其他竞争产品。与给定扭矩范围内的竞争产品相比，RUG系列精密万向系统拥有更低的尺寸高度和出色的动态响应性能。当只需要有限角度旋转时，可通过取消高精度导电滑环从而进一步降低整体高度。较低的光路有助于提供整体测试的准确性(较低的阿贝臂)，基于精密角接触轴系基础工艺，RUG提供了高精度、高动态、平滑运动的解决方案，低成本和低维护特性，使其可以长时间保持高可靠性和稳定性。

■卓越的定位能力

RUG精密万向系统凭借高性能的无铁芯力矩电机配合精密调校的角接触滑动摩擦轴系，为系统提供了高达0.02arc sec的控制分辨率。极小且趋于线性的滑动摩擦阻力为系统的微步增量运动提供了保障，使其具有优于±0.08arc sec的卓越位置定位能力(稳态误差)和优于25ms的快速整定时间(稳态时间)。

■出色的控制分辨率

RUG高精度万向系统采用分体式无铁芯力矩电机，降低了周期性的转矩误差，分辨率可达0.001″。超平滑的速度稳定性，可与高质量的直流有刷电机相媲美。低速性能优异，即使以低于0.01°(36arcsec)/s的极低速转动时，其位置跟随误差仍可优于±0.5arc sec。

■优异的滑动摩擦特性

AC_MRS精密回转工作台集成了CNCHC自主研发的MDRT和MDRS系列产品的优点，AC系列精密回转工作台的速度和加速能力明显高于其他竞争产品。与给定扭矩范围内的竞争产品相比，AC_MRS系列精密回转工作台拥有更低的尺寸高度。

■卓越的定位能力

AC_MRS 系列精密回转工作台凭借高性能的无铁芯力矩电机配合精密调校的角接触滑动摩擦轴系，为系统提供了高达0.02arc sec的控制分辨率。极小且趋于线性的滑动摩擦阻力为系统的微步增量运动提供了保障，使其具有优于±0.08arc sec的卓越位置定位能力(稳态误差)和优于25ms的快速整定时间(稳态时间)。

■出色的控制分辨率

采用分体式无铁芯力矩电机，降低了周期性的转矩误差。该精密直驱转台分辨率可达0.001″。超平滑的速度稳定性，可与高质量的直流有刷电机相媲美。低速性能优异，即使以低于0.01°(36arcsec)/s的极低速转动时，其位置跟随误差仍可优于±0.5arc sec。

■出色的运动轴摆

A轴采用两个大直径角接触轴承，独特的大跨距设计极大地减小了运动轴摆，提高了系统刚度和重复性。同时大直径轴承能够承受更大的有效载荷，而不会影响性能。

■A轴高精度在线检测

AC_MRS可以通过A轴后端进行在线高精度检测和误差修正。即使由于负载和阿贝臂的引入也能实现高精度在线检测。可以极大的提高设备的工作效率。经误差校准后，可以获得≤1.5arc sec(ISO230-2)的定位精度。

Planar DL-XY 集成一体式XY亚微米精密直驱平台，在低组高的紧凑几何空间内提供了大尺寸的通光孔径，并具备高动态响应能力。尤其适合于双面LED晶圆缺陷检测、高动态性能下进行准静态光学计量检测以及需要极高运动直线度和运动平面度的应用场合。该系列产品具有多个规格以及精度等级可选，最高可实现＜150nm(ISO230-2)双向重复定位性能。 

■出色的空间几何精度

Planar DL-XY集成一体式亚微米精密直驱平台提供了极其出色的平面几何性能。其具备优于±0.5μm的运动直线度和优于±1.25μm的空间运动平面度。高精度宽幅式滚动摩擦轴系为平台提供了出色的支撑刚性，低重心设计更加有利于提升结构刚性。非接触式双边同步驱动消除了因大通光孔径设计从而导致的机械扭曲变形，使平台轴运动中心驱动刚度在全行程范围内保持一致，从而实现终端负载出色的运动平面度性能。

■超高精度等级选项

多轴定位系统为了达到尽可能高的系统精度（特别是纳米级精度），必须在严格的环境条件下，在机械系统完全组装、功能测试完毕，使用特定检测仪器通过对REI95XY平台进行动态轨迹检测，同时将检测数据通过系统控制软件进行动态校准，经校准后可以保证二维运动精度达到±200nm或者更好。

Planar DL-XY标准版本和超高精度版本的性能差异主要通过正交误差进行体现。经校准后的超高精度版本可以对直线度、正交误差、偏航角误差等带来的精度误差进行部分修正消除，但并不意味着改变了原始的物理机械精度。

■非接触式直接驱动

Planar DL-XY 二维平面亚微米精密直驱平台具有高动态性能、零齿槽效应、纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。

Planar DL-150XY和Planar DL-250XY,每个轴均配置为两个电机同步驱动且具有高伺服控制带宽，所产生的推力和摩擦力均保持在平台的几何中心，这样的设计实现了平台出色的机械几何精度与动态性能的有机结合。

■集成线缆管理

Planar DL-XY二维平台拥有专为长寿命和性能优化而设计的电缆管理系统，可以非常方便的与其他平台进行组合使用。特殊的线缆管理方案可以提供额外的真空气路走线。

Planar DS-XY系列是一款紧凑型、低组高，同时具有优良几何机械精度、高动态性能的集成一体式XY平面运动纳米定位平台。该平台具有纳米级的双向重复定位性能。可以广泛应用于表面轮廓测量和晶圆切割、光刻直写、激光微纳加工等高端应用领域。

■ 超高的空间几何精度

Planar DS-XY二维直驱平台的直线度、正交误差等关键指标具有多种规格可选同时对结构刚性进行了特殊的优化以满足苛刻的高动态响应要求，加速度最大可以达到1.5g，速度最快可达750mm/s。这使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力。该产品运行平滑，速度波动小，尤其适合于扫描应用

■ 超高精度等级选项

多轴定位系统为了达到尽可能高的系统精度（特别是纳米级精度），必须在严格的环境条件下，在机械系统完全组装、功能测试完毕，使用特定检测仪器通过对REI95XY平台进行动态轨迹检测，同时将检测数据通过系统控制软件进行动态校准，经校准后可以保证二维运动精度达到±200nm或者更好。

Planar DS-XY标准版本和超高精度版本的性能差异主要通过正交误差进行体现。经校准后的超高精度版本可以对直线度、正交误差、偏航角误差等带来的精度误差进行部分修正消除，但并不意味着改变了原始的物理机械精度。

■ 非接触式直接驱动

Planar DS-XY二维平台具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。

Planar DS-200XY和Planar DS-300XY,每个轴均可以实现一个或者两个电机的配置，从而为各种不同负载的使用提供了更多的选择。无论是单电机还是双电机，其所产生的推力和摩擦力均保持在平台的几何中心，这样的设计保证了平台的性能。

■ 集成线缆管理

Planar DS-XY二维平台拥有专为长寿命和性能优化而设计的电缆管理系统，可以非常快速的与其他平台进行组合使用。特殊的线缆管理方案还可以提供额外的气路走线，同时不影响平台的性能。

■ 出色的防护设计

ECO_SL/SLE系列产品的外部结构具有防止碎屑、灰尘进入的功能。防护罩采用V0级阻燃材料制作而成，使其能够在较为恶劣的工作环境下正常工作。ECO_SL/SLE系列产品的关键结构件均经过有限元仿真分析及优化并CNC一体加工成型，具有极高的稳定性和可靠性。

■ 超精密设计

ECO_SL/SLE系列经济型线性位移台，根据需要可直接将反馈系统耦合在工作台面上，配合精密研磨滚珠丝杠和高精度滚动摩擦导轨，使ECO_SL/SLE系列产品具有优异的定位精度、重复性表现和优于50nm的机械分辨率。

■ 灵活的系统设计

ECO_SL/SLE系列产品具有标准化的通用安装方式，便于系统集成。可以轻松组合两个、三个或更多轴，以实现灵活的系统设计和多轴配置。ECO_SL/SLE系列产品也可用于Z向驱动，根据需要可以通过增加制动器实现断电自锁防护。

■ 经济型运动平台

与CNBHC其他高性能产品相比，ECO_SL/SLE系列产品在保证其核心部件性能以及高重复性的同时，兼具高动态响应能力。通过降低加工制造成本，为客户提供了极具性价比的低成本解决方案。

■出色的防护设计

ECO_SL/SLE系列产品的外部结构具有防止碎屑、灰尘进入的功能。防护罩采用V0级阻燃材料制作而成，使其能够在较为恶劣的工作环境下正常工作。ECO_SL/SLE系列产品的关键结构件均经过有限元仿真分析及优化并CNC一体加工成型，具有极高的稳定性和可靠性。

■超精密设计

ECO_SL/SLE系列经济型线性位移台，根据需要可直接将反馈系统耦合在工作台面上，配合精密研磨滚珠丝杠和高精度滚动摩擦导轨，使ECO_SL/SLE系列产品具有优异的定位精度、重复性表现和优于50nm的机械分辨率。

■灵活的系统设计

ECO_SL/SLE系列产品具有标准化的通用安装方式，便于系统集成。可以轻松组合两个、三个或更多轴，以实现灵活的系统设计和多轴配置。ECO_SL/SLE系列产品也可用于Z向驱动，根据需要可以通过增加制动器实现断电自锁防护。

■经济型运动平台

与CNBHC其他高性能产品相比，ECO_SL/SLE系列产品在保证其核心部件性能以及高重复性的同时，兼具高动态响应能力。通过降低加工制造成本，为客户提供了极具性价比的低成本解决方案。

■出色的防护设计

ECO_SL/SLE系列产品的外部结构具有防止碎屑、灰尘进入的功能。防护罩采用V0级阻燃材料制作而成，使其能够在较为恶劣的工作环境下正常工作。ECO_SL/SLE系列产品的关键结构件均经过有限元仿真分析及优化并CNC一体加工成型，具有极高的稳定性和可靠性。

■超精密设计

ECO_SL/SLE系列经济型线性位移台，根据需要可直接将反馈系统耦合在工作台面上，配合精密研磨滚珠丝杠和高精度滚动摩擦导轨，使ECO_SL/SLE系列产品具有优异的定位精度、重复性表现和优于50nm的机械分辨率。

■灵活的系统设计

ECO_SL/SLE系列产品具有标准化的通用安装方式，便于系统集成。可以轻松组合两个、三个或更多轴，以实现灵活的系统设计和多轴配置。ECO_SL/SLE系列产品也可用于Z向驱动，根据需要可以通过增加制动器实现断电自锁防护。

■经济型运动平台

与CNBHC其他高性能产品相比，ECO_SL/SLE系列产品在保证其核心部件性能以及高重复性的同时，兼具高动态响应能力。通过降低加工制造成本，为客户提供了极具性价比的低成本解决方案。

■出色的机械刚性

SWI115SL/SLE亚微米线性定位平台是高刚性、高精度、亚微米重复性的精密线性定位平台，行程从50mm~200mm。整体材质采用7075-T6航空铝合金，经有限元分析优化并一体加工成型，有效避免因铝制基座和导轨的热膨胀系数不同所导致的弯曲效应。

■优化的侧密封结构

SWI115SL/SLE亚微米线性定位平台采用经第四代优化的侧密封结构。可以有效防止颗粒粉尘与加工碎屑的进入，从而避免因粉尘而引起传动系统摩擦加大，确保传动系统能够长期可靠的维持高性能。可选的正压空气除尘系统进一步提升了设备的防护能力和长期可靠性。

■出色的定位能力

SWI115SL/SLE能够提供快速平滑的运动，具有响应快、稳态时间短、定位精确的特点，非预拉升装配工艺，保证了丝杆长期的可靠性。具有低重心、高刚性、导向精确、运动平滑、低速爬升小等特点，运动能力出色，极佳的负载能力和非常低的噪音。

■良好的系统集成灵活性

SWI115SL/SLE 系列产品具有完善的单轴/多轴管理方案，且与CNBHC其他系列产品具有良好的兼容性，使设计具有充分的灵活裕度，可以快速进行系统开发，极大的减少设计开发工作量，提升工作效率。

■灵活的设计

SWI115SL/SLE设计灵活，具有很多标准功能选项和附件选项。该产品设计标准搭载Servotronix伺服电机或Oriental- Motor(东方电机)五相步进电机。对于高精度的应用，推荐使用五相步进电机以获得更好的位置定位能力和定位稳定性。

REI95XY采用集成式一体化、低组高设计，拥有超过50mm的行程，平台总高仅75mm。具有完整的硬限位和软限位保护，综合线缆管理系统和四种不同精度等级规格。

■ 非接触式直接驱动

REI95XY纳米定位平台具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。特别适合于光纤耦合制造、传感器测试与扫描、显微镜应用等各种需要平稳、快速定位和精确的运动场合。

■ 极致的空间几何精度

REI95XY允许对诸如正交误差、直线度、平面度等关键指标进行优化，从而实现用户特殊指定允许的公差范围。该产品没有背隙且近乎零系统迟滞性，在整个二维空间运动范围内均可以保证精确定位和高重复性的纳米级运动性能。

■ 超高精度等级选项

多轴定位系统为了达到尽可能高的系统精度（特别是纳米级精度），必须在严格的环境条件下，在机械系统完全组装、功能测试完毕，使用特定检测仪器通过对REI95XY平台进行动态轨迹检测，同时将检测数据通过系统控制软件进行动态校准，经校准后可以保证二维运动精度达到±150nm或者更好。

REI95XY标准版本和超高精度版本的性能差异主要通过正交误差进行体现。经校准后的超高精度版本可以对直线度、正交误差、偏航角误差等带来的精度误差进行部分修正消除，但并不意味着改变了原始的物理机械精度。

■ 多轴应用

REI95XY可以结合其他的平台产品快速创造出独特、高性能的多轴系统，如：Z轴升降平台(REI95LM-Z)、精密转台、角位移台（测角仪）等；

REI130XY采用集成式一体化、低组高设计，拥有超过160*160mm的行程，平台总高仅90mm。采用滑动摩擦轴系，由REI130LM单轴产品衍生开发而来。具有完整的硬限位和软限位保护，综合线缆管理系统和三种不同精度等级规格。

■ 超高的空间几何精度

REI130XY允许对诸如正交误差、直线度、平面度等关键指标进行优化，从而实现用户特殊指定允许的公差范围。该产品没有背隙并且近乎零系统迟滞性，在整个二维空间运动范围内均可以保证精确定位和高重复性的纳米级运动性能。

■ 超高精度等级选项

多轴定位系统为了达到尽可能高的系统精度（特别是纳米级精度），必须在严格的环境条件下，在机械系统完全组装、功能测试完毕，使用特定检测仪器通过对REI130XY平台进行动态轨迹检测，同时将检测数据通过系统控制软件进行动态校准，经校准后可以保证二维运动精度达到±150nm或者更好。

REI95XY标准版本和超高精度版本的性能差异主要通过正交误差进行体现。经校准后的超高精度版本可以对直线度、正交误差、偏航角误差等带来的精度误差进行部分修正消除，但并不意味着改变了原始的物理机械精度。

■ 非接触式直接驱动

REI130XY采用非接触式直接驱动技术，具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。独特的结构设计、紧凑的空间尺寸使其在严苛的安装空间中同样可以获得高性能。特别适合于光纤耦合制造、传感器测试与扫描、显微镜应用等各种需要平稳、快速定位和精确的运动场合。

■ 多轴应用

REI130XY可以结合其他的平台产品快速创造出独特、高性能的多轴系统，如：Z轴升降平台(REI95LM-Z)、精密转台、角位移台（测角仪）等；

Planar DS-XY系列是一款紧凑型、低组高，同时具有优良几何机械精度、高动态性能的集成一体式XY平面运动纳米定位平台。该平台具有纳米级的双向重复定位性能。可以广泛应用于表面轮廓测量和晶圆切割、光刻直写、激光微纳加工等高端应用领域。

■ 超高的空间几何精度

Planar DS-XY二维直驱平台的直线度、正交误差等关键指标具有多种规格可选同时对结构刚性进行了特殊的优化以满足苛刻的高动态响应要求，加速度最大可以达到1.5g，速度最快可达750mm/s。这使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力。该产品运行平滑，速度波动小，尤其适合于扫描应用

■ 超高精度等级选项

多轴定位系统为了达到尽可能高的系统精度（特别是纳米级精度），必须在严格的环境条件下，在机械系统完全组装、功能测试完毕，使用特定检测仪器通过对REI95XY平台进行动态轨迹检测，同时将检测数据通过系统控制软件进行动态校准，经校准后可以保证二维运动精度达到±200nm或者更好。

Planar DS-XY标准版本和超高精度版本的性能差异主要通过正交误差进行体现。经校准后的超高精度版本可以对直线度、正交误差、偏航角误差等带来的精度误差进行部分修正消除，但并不意味着改变了原始的物理机械精度。

■ 非接触式直接驱动

Planar DS-XY二维平台具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。

Planar DS-200XY和Planar DS-300XY,每个轴均可以实现一个或者两个电机的配置，从而为各种不同负载的使用提供了更多的选择。无论是单电机还是双电机，其所产生的推力和摩擦力均保持在平台的几何中心，这样的设计保证了平台的性能。

■ 集成线缆管理

Planar DS-XY二维平台拥有专为长寿命和性能优化而设计的电缆管理系统，可以非常快速的与其他平台进行组合使用。特殊的线缆管理方案还可以提供额外的气路走线，同时不影响平台的性能。

Planar DL-XY 集成一体式XY亚微米精密直驱平台，在低组高的紧凑几何空间内提供了大尺寸的通光孔径，并具备高动态响应能力。尤其适合于双面LED晶圆缺陷检测、高动态性能下进行准静态光学计量检测以及需要极高运动直线度和运动平面度的应用场合。该系列产品具有多个规格以及精度等级可选，最高可实现＜150nm(ISO230-2)双向重复定位性能。 

■出色的空间几何精度

Planar DL-XY集成一体式亚微米精密直驱平台提供了极其出色的平面几何性能。其具备优于±0.5μm的运动直线度和优于±1.25μm的空间运动平面度。高精度宽幅式滚动摩擦轴系为平台提供了出色的支撑刚性，低重心设计更加有利于提升结构刚性。非接触式双边同步驱动消除了因大通光孔径设计从而导致的机械扭曲变形，使平台轴运动中心驱动刚度在全行程范围内保持一致，从而实现终端负载出色的运动平面度性能。

■超高精度等级选项

多轴定位系统为了达到尽可能高的系统精度（特别是纳米级精度），必须在严格的环境条件下，在机械系统完全组装、功能测试完毕，使用特定检测仪器通过对REI95XY平台进行动态轨迹检测，同时将检测数据通过系统控制软件进行动态校准，经校准后可以保证二维运动精度达到±200nm或者更好。

Planar DL-XY标准版本和超高精度版本的性能差异主要通过正交误差进行体现。经校准后的超高精度版本可以对直线度、正交误差、偏航角误差等带来的精度误差进行部分修正消除，但并不意味着改变了原始的物理机械精度。

■非接触式直接驱动

Planar DL-XY 二维平面亚微米精密直驱平台具有高动态性能、零齿槽效应、纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。

Planar DL-150XY和Planar DL-250XY,每个轴均配置为两个电机同步驱动且具有高伺服控制带宽，所产生的推力和摩擦力均保持在平台的几何中心，这样的设计实现了平台出色的机械几何精度与动态性能的有机结合。

■集成线缆管理

Planar DL-XY二维平台拥有专为长寿命和性能优化而设计的电缆管理系统，可以非常方便的与其他平台进行组合使用。特殊的线缆管理方案可以提供额外的真空气路走线。

■ 双平衡零摩擦配重设计

SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台是速度、精度、系统分辨率、重复定位精度、可靠性、高刚性轻量化设计的最好结合，是SWI系列的衍生产品，该平台表现出了与SWI系列同样出色的运动性能，是专为Z向高精度、高刚性、高动态响应应用设计。SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台采用零摩擦的双重平衡机制，维持高性能的同时最大限度的减少电机发热，平衡能力0-20kg用户可调，双平衡设计最大限度减少了平台整体的高度和倾覆扭矩，同时减小直线度和角度偏摆对精度的影响。

■ 非接触式直接驱动

非接触式直接驱动技术的应用，使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力，从而使大规模生产成为可能。SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台是先进直接驱动技术实现亚微米级定位性能的代表作品之一。非接触式直接驱动技术具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。独特的结构设计、紧凑的空间尺寸使其在严苛的安装空间中同样可以获得高性能。

■ 系统特性

极高的系统分辨率是出色的精度、重复定位精度、位置稳定性的基础。SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台在直线电机Z轴应用中实现了优于30nm的最小增量运动，该系列平台完全无背隙和近乎零系统迟滞性从而可以实现精确和高重复的亚微米运动。

■ 灵活、快速的系统组合

SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台具有标准化的安装方式，便于系统集成。二轴、三轴或更多轴的应用均可以通过标准孔位灵活的进行组装搭配。灵活的设计非常便于多轴配置和应用。

■ 双平衡零摩擦配重设计

SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台是速度、精度、系统分辨率、重复定位精度、可靠性、高刚性轻量化设计的最好结合，是SWI系列的衍生产品，该平台表现出了与SWI系列同样出色的运动性能，是专为Z向高精度、高刚性、高动态响应应用设计。SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台采用零摩擦的双重平衡机制，维持高性能的同时最大限度的减少电机发热，平衡能力0-20kg用户可调，双平衡设计最大限度减少了平台整体的高度和倾覆扭矩，同时减小直线度和角度偏摆对精度的影响。

■ 非接触式直接驱动

非接触式直接驱动技术的应用，使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力，从而使大规模生产成为可能。SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台是先进直接驱动技术实现亚微米级定位性能的代表作品之一。非接触式直接驱动技术具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。独特的结构设计、紧凑的空间尺寸使其在严苛的安装空间中同样可以获得高性能。

■ 系统特性

极高的系统分辨率是出色的精度、重复定位精度、位置稳定性的基础。SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台在直线电机Z轴应用中实现了优于30nm的最小增量运动，该系列平台完全无背隙和近乎零系统迟滞性从而可以实现精确和高重复的亚微米运动。

■ 灵活、快速的系统组合

SWI_ZS系列双平衡Z向精密直驱平台具有标准化的安装方式，便于系统集成。二轴、三轴或更多轴的应用均可以通过标准孔位灵活的进行组装搭配。灵活的设计非常便于多轴配置和应用。

■ 出色的动平衡机制

REI95Z纳米定位平台采用几乎零摩擦的平衡机制，维持高性能的同时最大限度的减少电机的发热。平衡能力从0到7Kg用户可调。

■ 非接触式直接驱动

非接触式直接驱动技术的应用，使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力，从而使其大规模生产成为可能。REI95Z系列微动纳米定位平台是先进的直接驱动技术实现纳米级定位性能的代表作品之一。非接触式直接驱动技术具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。独特的结构设计、紧凑的空间尺寸使其在严苛的安装空间中同样可以获得高性能。特别适合于光纤耦合制造、传感器测试与扫描、显微镜应用等各种需要平稳、快速定位和精确的运动场合。

■ 灵活的系统设计

REI系列产品具有标准化的通用安装方式，便于系统集成。二轴、三轴或更多轴的应用均可以通过标准孔位灵活的进行组装搭配。灵活的设计非常便于多轴配置和应用。

■ 系统特性

极高的系统分辨率是出色的精度、重复定位精度、位置稳定性的基础。REI95Z Z向纳米定位平台在直线电机应用中实现了优于2nm的最小增量运动，该系列平台完全无背隙和近乎零系统迟滞性从而可以实现精确和高重复的纳米运动，以及极低速的平滑运动(＜10nm/s)。

REI130Z和REI130Z-Plus 单平衡Z向纳米定位平台是速度、精度、系统分辨率、重复定位精度、可靠性、紧凑尺寸的最好结合，作为REI系列产品的衍生产品，该平台表现出了与REI130LM系列同样的运动性能，是需要紧凑空间应用的最佳Z轴选择。

■ 出色的动平衡机制

REI130Z纳米定位平台采用几乎零摩擦的平衡机制，维持高性能的同时最大限度的减少电机的发热。平衡能力从0到7Kg用户可调。

■ 非接触式直接驱动

非接触式直接驱动技术的应用，使精密微加工和精密测量设备具备了可靠、稳定、准确而快速的定位能力，从而使其大规模生产成为可能。REI130Z系列微动纳米定位平台是先进的直接驱动技术实现纳米级定位性能的代表作品之一。非接触式直接驱动技术具有高动态性能、零齿槽效应、亚纳米级分辨率、极低的速度波动、高速高精度等特点。独特的结构设计、紧凑的空间尺寸使其在严苛的安装空间中同样可以获得高性能。特别适合于光纤耦合制造、传感器测试与扫描、显微镜应用等各种需要平稳、快速定位和精确的运动场合。

■ 灵活的系统设计

REI系列产品具有标准化的通用安装方式，便于系统集成。二轴、三轴或更多轴的应用均可以通过标准孔位灵活的进行组装搭配。灵活的设计非常便于多轴配置和应用。

■ 系统特性

极高的系统分辨率是出色的精度、重复定位精度、位置稳定性的基础。REI130Z Z向纳米定位平台在直线电机应用中实现了优于2nm的最小增量运动，该系列平台完全无背隙和近乎零系统迟滞性从而可以实现精确和高重复的纳米运动，以及极低速的平滑运动(＜10nm/s)。

■卓越的定位能力

MDRS100低组高精密直驱转台凭借高性能的无铁芯力矩电机配合精密调校的角接触滑动摩擦轴系，为系统提供了高达0.02arc sec的控制分辨率。极小且趋于线性的滑动摩擦阻力为系统的微步增量运动提供了保障，使其具有优于±0.08arc sec的卓越位置定位能力(稳态误差)和优于25ms的快速整定时间(稳态时间)。

■直接耦合的无铁芯力矩电机

MDRS100采用分体式无铁芯力矩电机，降低了周期性的转矩误差。该精密直驱转台提供了超平滑的速度稳定性，可与高质量的直流有刷电机相媲美，而无需所有直流电机的固有维护要求，其低速性能优异，即使以低于0.01°(36arcsec)/s的极低速转动时，其位置跟随误差仍可优于±0.5arc sec。

■无刷驱动

MDRS100精密机械转台采用无刷直驱电机技术，最大限度地提高了定位性能和动态响应性能。无需更换电刷，也无需维护轮系或皮带。与齿轮或皮带驱动机构相比，直接驱动还提供更快的加速度和更高的响应速度。

■紧凑的结构

MDRS100精密机械转台针对滑动摩擦轴系与反馈系统进行了特殊的优化设计，使工作台高度最小化，降低了系统的有效工作高度，最大限度地减少了轴向误差和轴摆误差所带来的阿贝误差。除了整体高度较低外，MDRS系列产品还设计了标准的通光孔径，可用于光束传输。

■卓越的定位能力

MDRS150低组高精密直驱转台凭借高性能的无铁芯力矩电机配合精密调校的角接触滑动摩擦轴系，为系统提供了高达0.02arc sec的控制分辨率。极小且趋于线性的滑动摩擦阻力为系统的微步增量运动提供了保障，使其具有优于±0.08arc sec的卓越位置定位能力(稳态误差)和优于25ms的快速整定时间(稳态时间)。

■直接耦合的无铁芯力矩电机

MDRS150采用分体式无铁芯力矩电机，降低了周期性的转矩误差。该精密直驱转台提供了超平滑的速度稳定性，可与高质量的直流有刷电机相媲美，而无需所有直流电机的固有维护要求，其低速性能优异，即使以低于0.01°(36arcsec)/s的极低速转动时，其位置跟随误差仍可优于±0.5arc sec。

■无刷驱动

MDRS150精密机械转台采用无刷直驱电机技术，最大限度地提高了定位性能和动态响应性能。无需更换电刷，也无需维护轮系或皮带。与齿轮或皮带驱动机构相比，直接驱动还提供更快的加速度和更高的响应速度。

■紧凑的结构

MDRS150精密机械转台针对滑动摩擦轴系与反馈系统进行了特殊的优化设计，使工作台高度最小化，降低了系统的有效工作高度，最大限度地减少了轴向误差和轴摆误差所带来的阿贝误差。除了整体高度较低外，MDRS系列产品还设计了标准的通光孔径，可用于光束传输。

■卓越的定位能力

MDRS200低组高精密直驱转台凭借高性能的无铁芯力矩电机配合精密调校的角接触滑动摩擦轴系，为系统提供了高达0.02arc sec的控制分辨率。极小且趋于线性的滑动摩擦阻力为系统的微步增量运动提供了保障，使其具有优于±0.08arc sec的卓越位置定位能力(稳态误差)和优于25ms的快速整定时间(稳态时间)。

■直接耦合的无铁芯力矩电机

MDRS200采用分体式无铁芯力矩电机，降低了周期性的转矩误差。该精密直驱转台提供了超平滑的速度稳定性，可与高质量的直流有刷电机相媲美，而无需所有直流电机的固有维护要求，其低速性能优异，即使以低于0.01°(36arcsec)/s的极低速转动时，其位置跟随误差仍可优于±0.5arc sec。

■无刷驱动

MDRS200精密机械转台采用无刷直驱电机技术，最大限度地提高了定位性能和动态响应性能。无需更换电刷，也无需维护轮系或皮带。与齿轮或皮带驱动机构相比，直接驱动还提供更快的加速度和更高的响应速度。

■紧凑的结构

MDRS200精密机械转台针对滑动摩擦轴系与反馈系统进行了特殊的优化设计，使工作台高度最小化，降低了系统的有效工作高度，最大限度地减少了轴向误差和轴摆误差所带来的阿贝误差。除了整体高度较低外，MDRS系列产品还设计了标准的通光孔径，可用于光束传输。

■卓越的定位能力

MDRT150高刚性精密直驱转台凭借高性能的无铁芯力矩电机配合精密调校的角接触滑动摩擦轴系，为系统提供了高达0.02arc sec的控制分辨率。极小且趋于线性的滑动摩擦阻力为系统的微步增量运动提供了保障，使其具有优于±0.08arc sec的卓越位置定位能力(稳态误差)和优于25ms的快速整定时间(稳态时间)。

■出色的控制分辨率

MDRT150采用分体式无铁芯力矩电机，降低了周期性的转矩误差。该精密直驱转台分辨率可达0.001″。超平滑的速度稳定性，可与高质量的直流有刷电机相媲美。低速性能优异，即使以低于0.01°(36arcsec)/s的极低速转动时，其位置跟随误差仍可优于±0.5arc sec。

■无刷直驱

MDRT150精密机械转台采用无刷直驱电机技术，最大限度地提高了定位性能和动态响应性能。无需更换电刷，也无需维护轮系或皮带。与齿轮或皮带驱动机构相比，直接驱动还提供更快的加速度和更高的响应速度。

■出色的运动轴摆

MDRT150高承载精密直驱转台采用两个大直径角接触轴承，独特的大跨距设计极大地减小了运动轴摆，提高了系统刚度和重复性。同时大直径轴承能够承受更大的有效载荷，而不会影响性能。

■灵活的配置

MDRT150是一款具有集成“T型槽”的旋转工作台。这些槽可用于水平安装工作台或连接定制的应用专用夹具。

CK3M高性能纳米级运动控制器是OMRON基于Power UMAC高性能运动控制器研发的系统级多轴运动控制器，其可以根据应用配置成定制化的控制系统。

CK3M具有50μs/5轴的伺服循环周期，凭借超高速反馈控制，在精密加工领域可实现高精度的轮廓轨迹控制。CK3M可以支持基于模拟指令(DAC、PFM/正交脉冲、直接PWM)的轴控制。能够与高响应性的音圈电机和精密的直线电机等各种电机相连接，进行精确的定位控制和高动态响应控制。

支持几乎所有反馈类型，包括但不限于A/B相信号、串行数据I/F，Sin/Cos，激光干涉仪等，采用C语言/Programmable Multi Axis Controller专用语言/G代码等编程语言，设计开发灵活，可以根据实际需要搭建不同数学模型，支持自定义控制算法，包括但不限于五轴联动算法、六轴并联算法、自定义PID算法等。

Power UMAC 运动控制器是Delta Tau(OMRON)研发的系统级多轴运动控制器，其可以根据应用配置成定制化的控制系统，是一款拥有内置I/O、电源以及完整封装的专业运动控制器。

采用Ethernet 通讯方式与主计算机进行通讯。3U 结构的UMAC 控制器配线（RTB/DB）安装十分简便，可根据应用配置成一个具有高度灵活性的，功能强大的设备控制系统。

Delta Tau提供了丰富的附件以供选择，如各种类型的轴卡，数字I/O卡，模拟量输入卡，通信接口，反馈接口和许多其他的附件。UMAC控制器最多可配置为256个轴。

Power UMAC具有极佳的控制性能，其独特的控制算法和控制特性可以实现明显区别于竞争产品的运动特性。结合高性能运动机构，可以实现1nm的最小增量运动、ms级的快速整定时间和极佳的位置跟随能力。是超精密加工的理想选择。